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場發(fā)射掃描電鏡
蔡司鎢燈絲掃描電鏡ZEISS EVO MA 10/LS 10
價 格：詢價
產 地：更新時間：2021-01-18 15:22
品 牌：型 號：EVO MA 10/LS 10
狀 態(tài)：正常點擊量：1079
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詳細描述：
品牌：卡爾?蔡司 | 型號：EVO MA 10/LS 10
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制造商：德***卡爾蔡司公司 | 經銷商：歐波同有限公司 |
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【品牌故事】
世界光學品牌，可見光及電子光學的領導企業(yè)----德***蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創(chuàng)造了數個： 臺靜電式透射電鏡 (1949)
臺商業(yè)化掃描電鏡 (1965)
臺數字化掃描電鏡(1985)
臺場發(fā)射掃描電鏡(1990)
臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
臺具有Koehler照明的 200kV 場發(fā)射透射電鏡(2003)
臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003) CARL ZEISS以 其前瞻性至臻完美的設計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的***地位。自成立至今，***直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統，公司擁有電鏡制造*核心 的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是全球為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到全世界廣大用戶的信賴與認可。作為全球電鏡標準***的CARL ZEISS將***路領跑高端電鏡市場為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀元。 |
【總體描述】
EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領域,LS 10用于生命科學領域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術***的物鏡設計，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術。Beamsleeve的設計，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。 |
【技術參數】
分辨率： 3.0nm@ 30KV(SE and W) 4.0nm@ 30KV(VP with BSD)
加速電壓：0.2―30KV
放大倍數：7―1000000x
探針電流：0.5PA-5μA
X-射線分析工作距離：8.5mm 35度接收角
低真空壓力范圍：10―400Pa (LS10:10-3000Pa)
工作室：310mm(φ)×220mm(h)
5軸優(yōu)中心自動樣品臺：X=80mm Y=100mm Z=35mm T=-10°- 90°R=360°
試樣高度：100mm，試樣直徑：200mm
系統控制：基于Windows 7 的SmartSEM操作系統
存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels |
【產品應用】
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分 析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶 粒取向測量。 |
滬公網安備31011502016460號
